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仪器开放共享 | 平台资源
中国科学院北京纳米能源与系统研究所公共技术服务中心成立于2013年,仪器设备主要在中国科学院大型仪器修缮购置项目支持下购置。中心整合研究所的仪器设备资源集中管理使用,开放共享,为研究所的科研工作提供了有力的技术支撑。中心利用设备与技术优势同时也为科研院所、大学、社会企业等单位提供微纳加工、分析测试、技术咨询以及设备应用培训等方面的技术服务。为进一步开放仪器资源,更好的发挥平台对外服务功能,将在研究所公众号上推出“仪器开放共享 | 平台资源”专题,分批介绍中心相关的仪器资源。
公共技术服务中心微纳制造与加工技术平台拥有各类设备30余台套,可以实现各类微纳结构与器件的制造与加工。其中大型薄膜与纳米材料制备类设备有8台,可以实现金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜以及纳米阵列材料的制备与合成。微纳制造与加工平台积极拓展与国内外科研机构的合作交流,包括接纳外来用户经过培训后独立使用设备等灵活多样的合作方式。
微纳加工与制造平台联系方式:
袁宏韬 yuanhongtao@binn.cas.cn,
王玉光 wangyuguang@binn.cas.cn,
崔晓晨 cuixiaochen@binn.cas.cn,
张锦锡 zhangjinxi@binn.cas.cn,
联系电话:010-60688332/8320/8322/8405
本期将推出的第二批仪器资源:薄膜与纳米材料制备类设备。
(一)超高真空电子束蒸发镀膜仪
品牌/型号: Denton Vacuum/Explore 14
原产地:美国
主要用途:
关键参数:
1.基片尺寸:≤Ф6英寸
2.极限真空度:8×10-8Torr
3.镀膜均匀性:优于±3%(6英寸工件片)
(二)多靶磁控溅射镀膜系统
品牌/型号: Denton Vacuum/Discovery 635
原产地:美国
主要用途:
关键参数:
1.基片尺寸:≤Ф6英寸
2.极限真空度:8×10-8Torr
3.镀膜均匀性:优于±5% (6英寸工件片)
(三)KJL多靶磁控溅射镀膜系统
品牌/型号: Kurt J. Lesker/PVD75 Proline
原产地:美国
主要用途:
关键参数:
1.基片尺寸:≤Ф12英寸
2.极限真空度:2×10-7Torr
3.镀膜均匀性:优于±5% (6英寸工件片)
(四)KJL电子束蒸发镀膜仪
品牌/型号: Kurt J. Lesker/PVD75 Proline
原产地:美国
主要用途:
关键参数:
1.基片尺寸:≤Ф6英寸
2.极限真空度:2×10-7Torr
3.镀膜均匀性:优于±5%(6英寸工件片)
(五)原子层沉积系统
品牌/型号:PICOSUN/SUNALE™ R-200
原产地:芬兰
主要用途:
关键参数:
1.前驱体源: 具有六根独立源管线,最大加载十二个前驱体源
2.基片尺寸:≤ 8英寸基片
(六)等离子体增强化学气相沉积系统
品牌/型号:SENTECH/SI 500D
原产国:德国
主要用途:
关键参数:
ICP等离子源(13.56 MHz, 1200 W)
8路气体:N2O, SiH4, NH3, CH4, CF4, O2, Ar, N2
基底温度可到350℃
(七)热化学气相沉积系统
品牌/型号:EasyTube™ 3000 System
原产国:美国
主要用途:
关键参数:
最高温度1200℃
恒温区温度均匀性优于±0.5℃
(八)金属有机化学气相沉积系统
品牌/型号:Aixtron/CCS 3×2 MOCVD
原产国:英国
主要用途:
关键参数:
3×2英寸反应系统
三温区加热器,最高加热温度1300℃
MO源:Cp2Mg, TMIn, TMAl, TEGa, TMGa
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