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纳米能源所仪器开放共享 | 平台资源(三)
来源:公共技术服务中心发布时间:2023-11-21

仪器开放共享 | 平台资源 

中国科学院北京纳米能源与系统研究所公共技术服务中心成立于2013年,仪器设备主要在中国科学院大型仪器修缮购置项目支持下购置。中心整合研究所的仪器设备资源集中管理使用,开放共享,为研究所的科研工作提供了有力的技术支撑。中心利用设备与技术优势同时也为科研院所、大学、社会企业等单位提供微纳加工、分析测试、技术咨询以及设备应用培训等方面的技术服务。为进一步开放仪器资源,更好的发挥平台对外服务功能,将在研究所公众号上推出“仪器开放共享 | 平台资源”专题,分批介绍中心相关的仪器资源。

公共技术服务中心微纳制造与加工技术平台拥有各类设备30余台,其中大型图形化类设备有七台,可以实现各种微纳结构的图形化加工,包括电子束直写系统、高分辨紫外曝光、纳米压印等设备。微纳制造与加工平台积极拓展与国内外科研机构的合作交流,包括接纳外来用户经过培训后独立使用设备等灵活多样的对外服务形式。

图形化设备联系方式:

王玉光 wangyuguang@binn.cas.cn, 

崔晓晨 cuixiaochen@binn.cas.cn, 

张锦锡 zhangjinxi@binn.cas.cn,  

联系电话:010-60688320/8322/8405

本期将推出的第三批仪器资源:图形化类设备。 


(一)纳米电子束直写系统

品牌/型号: Vistec/EBPG-5000pES


原产国:荷兰

主要用途:

利用电子束扫描系统在光刻胶上制作纳米级分辨率的图形和结构。

关键参数:

1. 曝光分辨率优于20nm

2. 套刻精度:±20nm(100kV)±30nm(50kV)

3. 最大样品尺寸:6inch



(二)紫外曝光机 (2台)

品牌/型号: SUSS/MA/BA6


原产国:德国

主要用途

利用紫外光源在光刻胶上制作微米级分辨率的图形和结构。

关键参数

1. 曝光分辨率:0.8um

2. 套刻精度:正面0.5um;背面1um

3. 样品尺寸:最大6英寸,可加工不规则样品




(三)高分辨紫外曝光系统

品牌/型号: EULITHA AG/PhableR 100C


原产国:瑞士

主要用途

纳米周期微结构图形的紫外光刻曝光,可用于纳米点阵以及纳米光栅的制备。

关键参数

1. 曝光分辨率:优于150nm

2. 套刻精度:1um

3. 样品尺寸:最大4英寸


(四)喷印沉积仪

品牌/型号: Sonoplot / Microplotter II 


原产地:美国

主要用途

用于制备可控电极薄膜、聚合物光电器件、碳纳米管石墨烯器件、微电子器件、不同材料的多重构筑以及定位定量微纳修补等应用领域。

关键参数:

1.特征尺寸:10微米

2.打印溶剂粘度:450cp

3.特征类型:点阵列,连续的直线,折线,圆弧

4.绘制不均匀度:优于10% (200mm*200mm)



(五)纳米印刷设备

品牌/型号:SIJ / S050


原产地:日本

主要用途

超高分辨微量喷墨沉积系统可以精确释放沉积飞升级溶剂,可得到亚微米器件尺寸和纳米级平台精度。再加上调试的可重复性,使得此设备广泛用于聚合物光电器件、有机电子、碳管石墨烯器件、高密集微电子器件、定位定量微纳修补以及制作各种材料薄膜等应用领域。

关键参数:

1.特征尺寸:1微米

2.打印溶剂粘度:0.5-10000cps

3.特征类型:点阵列,连续的直线,折线,圆弧

4.绘制不均匀度:优于10% (200mm*200mm)




(六)纳米压印机 

品牌/型号:EZImpring/PL600


原产国:美国

主要用途

用于纳米结构的制作、复制、转移等。该设备适用硅、石英、PDMS及各种高分子材料植被的压印模板。

关键参数

1. 分辨率:优于80nm

2. 固化方式:紫外固化,时间少于3分钟;

3. 样品尺寸:最大6英寸。




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