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仪器开放共享 | 平台资源
中国科学院北京纳米能源与系统研究所公共技术服务中心成立于2013年,仪器设备主要在中国科学院大型仪器修缮购置项目支持下购置。中心整合研究所的仪器设备资源集中管理使用,开放共享,为研究所的科研工作提供了有力的技术支撑。中心利用设备与技术优势同时也为科研院所、大学、社会企业等单位提供微纳加工、分析测试、技术咨询以及设备应用培训等方面的技术服务。为进一步开放仪器资源,更好的发挥平台对外服务功能,将在研究所公众号上推出“仪器开放共享 | 平台资源”专题,分批介绍中心相关的仪器资源。
公共技术服务中心微纳制造与加工技术平台拥有各类设备30余台,其中大型图形化类设备有七台,可以实现各种微纳结构的图形化加工,包括电子束直写系统、高分辨紫外曝光、纳米压印等设备。微纳制造与加工平台积极拓展与国内外科研机构的合作交流,包括接纳外来用户经过培训后独立使用设备等灵活多样的对外服务形式。
图形化设备联系方式:
王玉光 wangyuguang@binn.cas.cn,
崔晓晨 cuixiaochen@binn.cas.cn,
张锦锡 zhangjinxi@binn.cas.cn,
联系电话:010-60688320/8322/8405
本期将推出的第三批仪器资源:图形化类设备。
(一)纳米电子束直写系统
品牌/型号: Vistec/EBPG-5000pES
原产国:荷兰
主要用途:
关键参数:
1. 曝光分辨率优于20nm;
2. 套刻精度:±20nm(100kV),±30nm(50kV);
3. 最大样品尺寸:6inch
(二)紫外曝光机 (2台)
品牌/型号: SUSS/MA/BA6
原产国:德国
主要用途:
关键参数:
1. 曝光分辨率:0.8um;
2. 套刻精度:正面0.5um;背面1um
3. 样品尺寸:最大6英寸,可加工不规则样品
(三)高分辨紫外曝光系统
品牌/型号: EULITHA AG/PhableR 100C
原产国:瑞士
主要用途:
关键参数:
1. 曝光分辨率:优于150nm;
2. 套刻精度:1um
3. 样品尺寸:最大4英寸
(四)喷印沉积仪
品牌/型号: Sonoplot / Microplotter II
原产地:美国
主要用途
关键参数:
1.特征尺寸:10微米
2.打印溶剂粘度:450cp
3.特征类型:点阵列,连续的直线,折线,圆弧
4.绘制不均匀度:优于10% (200mm*200mm)
(五)纳米印刷设备
品牌/型号:SIJ / S050
原产地:日本
主要用途
关键参数:
1.特征尺寸:1微米
2.打印溶剂粘度:0.5-10000cps
3.特征类型:点阵列,连续的直线,折线,圆弧
4.绘制不均匀度:优于10% (200mm*200mm)
(六)纳米压印机
品牌/型号:EZImpring/PL600
原产国:美国
主要用途:
关键参数:
1. 分辨率:优于80nm;
2. 固化方式:紫外固化,时间少于3分钟;
3. 样品尺寸:最大6英寸。
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