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仪器开放共享 | 平台资源
北京纳米能源与系统研究所公共技术服务中心微纳制造与加工技术平台拥有各类设备200余台,其中很多设备可用于二维材料器件制备工艺以及性能测试,本次介绍其中8台大型设备,它们可实现包括二维材料制备、转移、器件制备、结构表征、性能测试的完整研发模块。中心积极拓展与国内外科研机构的合作交流,包括接纳外来用户经过培训后独立使用设备等灵活多样的对外服务形式。
设备联系方式:
袁宏韬 yuanhongtao@binn.cas.cn
赵华波 zhaohuabo@binn.cas.cn
刘刚 liugang@binn.cas.cn
张锦锡 zhangjinxi@binn.cas.cn
王玉光 wangyuguang@binn.cas.cn
联系电话:010-60688332/8405/8304/8310/8320
(一)热化学气相沉积系统
品牌/型号: EasyTube™ 3000 System
原产国:美国
主要用途:用于二维材料MoS2等、石墨烯、氧化锌纳米线的可控生长。
关键参数:最高温度1200℃ 恒温区温度均匀性优于±0.5℃
(二)二维材料转移台
品牌/型号: SRV-FAS
原产国:中国
主要用途:二维材料的转移,器件制备。
关键参数:
1. 定位精度:优于1um;
2. 温控精度:优于1℃;
3. 样品尺寸:4英寸
(三)纳米电子束直写系统
品牌/型号: Vistec/EBPG-5000pES
原产国:荷兰
主要用途:二维材料器件的图形化加工,可实现多层器件高精度套刻。
关键参数:
1. 曝光分辨率优于20nm;
2. 套刻精度:±20nm(100kV),±30nm(50kV);
3. 最大样品尺寸:6inch
(四)FIB-SEM双束场发射扫描电镜
品牌/型号: FEI/Helios NanoLab 600i
原产国:捷克
主要用途:可实现二维材料在位高精度结构调制裁剪,性能调制;二维材料器件TEM原子成像分析样品的制备。
关键参数:
1. 放大倍率:40倍到60万倍
2. 二次电子分辨率:≤0.9nm@15kV;≤1.4nm@1kV
3. 离子成像分辨率:4nm@30kV
(五)共焦显微拉曼系统
品牌/型号:HORIBA/LabRAM HR Evolution
原产地:法国
主要用途:可实现二维材料的Raman微区分析表征。
关键参数:
1.拉曼频移范围:50cm-1-8000cm-1
2.PL范围:330-700nm(325nm激发)
3.光谱分辨率:≤0.65 cm-1(可见全谱段)
(六)低温高分辨光谱成像系统
品牌/型号:SOL/Confotec NR500
原产地:白俄罗斯
主要用途:可实现二维材料在低温环境下共聚焦成像、光电物性分析等
主要参数:
1.温度范围:4K-500K
2.光谱仪焦距:520mm
3.共焦针孔尺寸范围:0~1.5mm;共焦针孔步距:0.5μm
4.空间分辨率: <2μm(100X物镜)
(七)飞秒时间分辨光谱测试仪
品牌/型号:Light Conversion/ HARPIA
原产国:立陶宛
主要用途:飞秒时间分辨光谱测试仪可以用于表征ps和fs时间尺度上的二维材料 各种载流子动力学行为和材料的弛豫过程。
主要参数:
探测光范围:350~1800nm
延时线范围:7.8ns
2.上转换荧光模块
波长范围:400~1600nm
延时线范围:7.8ns
3.TCSPC模块
波长范围:300~820nm
时间分辨率:< 200ps
(八)超低温恒温测试系统
品牌/型号:PHYSIKE/TKMS
原产国:国内组装
主要用途:在超低温和强磁场环境下测量二维材料的电学、磁学性质。
关键参数:
1.温度控制范围:0.3~325 K;温控精确度:±1%;
2.磁场强度:纵向±9T;场均匀性±0.01%;
3.样品尺寸:直径4.9cm。
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