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金属有机化学气相沉积系统

品牌/型号:Aixtron/CCS 3 2 MOCVD 

原产国:英国 

主要用途:

MOCVD系统主要用在蓝宝石、单晶硅等衬底上生长高质量GaNAlNAlGaN等外延材料、多量子阱结构和纳米材料。 

关键参数: 

1. 3 2”反应系统 

2. 三温区加热器,最高加热温度1300  

3. 反应源:Cp2Mg,TMIn,TMAl,TEGa,TMGa 

负责人:袁老师

联系电话:010-82854603

E-mailyuanhongtao@binn.cas.cn 

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