品牌 / 型号: Denton Vacuum / Discovery 635

原产地：美国

主要用途:

各种金属薄膜的溅射沉积；各种金属、非金属化合物薄膜的溅射沉积；可共溅射沉积薄膜；可反应溅射沉积氮化物和氧化物薄膜；可溅射沉积强磁材料薄膜。

主要技术指标 

载片：直径小于200mm（8吋）的各种基片 

气体：Ar、O₂、N₂ 

基片温度范围：室温至450  

6英寸范围内非均匀性5%以内 

系统极限压强：≤8 10^-8Torr 

溅射阴极：三个3吋标准磁控靶，一个3吋增强靶 

溅射电源：1个600wRF电源，1个1000w直流电源 

射频偏压工件台：转速0-20转/分钟 

主要附件： 

全自动进样室 

CTI-8冷凝泵 

全量程真空计 

初量程真空计 

腔体内衬 

电磁阀组件 

样品要求 

小于8英寸 

放置地点 

超净间 

负责人：袁老师

联系电话：010-60688332

E-mail：yuanhongtao@binn.cas.cn