品牌/型号: SUSS/MA6

原产地：德国

主要用途:

用于III-V族、II-VI族和硅锗及其氧化物、氮化物等压电材料和压电光电子材料微纳结构的制备，适用于所有标准化的光刻应用。具备顶部和底部对准系统。 

关键参数：

曝光波长：UV400 

曝光面积：150mm（6英寸） 

分辨率：≤0.8 m 

正面套刻精度：≤ 0.5 m 

背面套刻精度：≤ 0.5 m 

光强均匀度：150mm直径内≤ 5% 

曝光模式可支持硬接触、软接触、接近和真空4种模式 

曝光时间：0-999.9s 

主要附件 

匀胶台，热板 

样品要求 

小于6英寸 

负责人: 袁老师

联系电话：010-82854603

E-mail : sunweijie@binn.cas.cn