品牌/型号：SENTECH/SI 500D

原产国：德国

主要用途：可沉积高质量、低应力的氧化硅、氮化硅、非晶硅等材料，能够实现对沉积厚度的精确控制。

主要技术指标 

载片：直径小于200mm（4英寸）的各种基片 

气体：Ar，O₂，N₂，CF₄，NH₃，SiH₄ 

基片温度范围：室温至300  

ICP源功率：0-1000W 

主要附件 

无 

主要功能 

可制备氧化硅、氮化硅及非晶硅薄膜 

样品要求 

小于8英寸 

放置地点 

一楼超净实验室 

负责人：袁老师

联系电话：010-60688332

E-mail：yuanhongtao@binn.cas.cn