品牌/型号: PVA TePla/IoN 40

原产地：美国

主要用途:

通过对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的，能够对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料进行表面清理。

关键参数：

1.射频电源：13.56 MHz，600W

2.工艺压力：0.16-2.66 mbar

3.抽真空时间：1分钟

负责人：付老师

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