品牌/型号：Heidelberg Instruments DWL 66⁺ 

原产国：德国 

主要用途： 

利用激光扫描系统在光刻胶上制作亚微米级或微米级分辨率的图形和结构，制备光刻掩膜版。

关键参数： 

1. 激光波长：405nm 

2. 制备图形的最小特征尺寸为600nm 

3. 加工样品最大尺寸可达6英寸

配套写头型号：2mm、5mm、10mm