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纳米电子束直写系统

品牌 / 型号:Vistec/EBPG-5000pES  

原产国:荷兰 

主要用途: 

利用电子束扫描系统在光刻胶上制作纳米级分辨率的图形和结构。 

关键参数: 

1. 曝光分辨率优于20nm 

2. 套刻精度: 20nm(100kV)  30nm(50kV) 

3. 样品尺寸:≤6inch 

负责人: 王老师 

联系电话:010-82854615 

E-mail : wangyuguang@binn.cas.cn 

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