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KJL多靶磁控溅射镀膜系统

品牌/型号: Kurt J. Lesker PVD75 Proline 

原产地:美国 

主要用途 

可制备各种金属与非金属薄膜材料,并可实现多靶共溅射制备合金薄膜;配有氧气、氮气两路反应气体,可进行反应溅射制备氧化物和氮化物薄膜材料。 

主要技术指标 

系统极限压强可达2x10-7Torr 

真空计测量范围为大气至10-10TorrMKS电容式薄膜规,满量程为0.1Torr 

3台标准磁场溅射靶枪,靶材尺寸为4英寸 

11000W直流电源 

1600W射频电源,具备自动匹配功能 

靶枪具有折弯功能,调节范围为正负45度,用于调节靶头与基片之间的溅射角度 

样品台最大转速20/分钟,转速可调 

衬底最高加热温度350 。控温精度 1  

4英寸范围内薄膜非均匀性优于 5% 

3MKS质量流量计控制进气,最大流量为100sccm,精度为1%,最小重复精度为0.2sccm 

主要附件 

 

样品要求 

小于12英寸

负责人:袁老师  

联系方式:010-82854603  

E-mailyuanhongtao@binn.cas.cn 

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