所网站  |  中国科学院  
 中心首页  中心概况 仪器平台 检测预约 人员队伍 联系我们
KJL多靶磁控溅射镀膜系统

品牌/型号: Kurt J. Lesker PVD75 Proline

原产地:美国

主要用途

可制备各种金属与非金属薄膜材料,并可实现多靶共溅射制备合金薄膜;配有氧气、氮气两路反应气体,可进行反应溅射制备氧化物和氮化物薄膜材料。

主要技术指标

系统极限压强可达2x10-7Torr

真空计测量范围为大气至10-10TorrMKS电容式薄膜规,满量程为0.1Torr

3台标准磁场溅射靶枪,靶材尺寸为4英寸

11000W直流电源

1600W射频电源,具备自动匹配功能

靶枪具有折弯功能,调节范围为正负45度,用于调节靶头与基片之间的溅射角度

样品台最大转速20/分钟,转速可调

衬底最高加热温度350 。控温精度 1

4英寸范围内薄膜非均匀性优于 5%

3MKS质量流量计控制进气,最大流量为100sccm,精度为1%,最小重复精度为0.2sccm

主要附件

样品要求

小于12英寸

负责人:袁老师  

联系电话:010-60688332

E-mailyuanhongtao@binn.cas.cn

  版权所有:中国科学院北京纳米能源与系统研究所 Copyright © 2018
地址:北京市海淀区学院路30号天工大厦C座 邮编: 100083