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深硅等离子刻蚀机

品牌/型号:DSE200S 

原产地:中国 

主要用途: 

纳米级、微米级尺寸的硅刻蚀 

关键参数: 

1. 刻蚀速率:≥2 m/min 

2. 深宽比:50:1 

3. 角度:90 1  

主要附件 

控制机柜 

干泵 

气体柜 

样品要求 

固态 

负责人:袁老师   

联系方式:010-82854603   

E-mailyuanhongtao@binn.cas.cn 

 
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