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深硅等离子刻蚀机

品牌/型号:DSE200S

原产地:中国

主要用途:

纳米级、微米级尺寸的硅刻蚀

关键参数:

1. 刻蚀速率:≥2 m/min

2. 深宽比:50:1

3. 角度:90  1

主要附件

控制机柜

干泵

气体柜

样品要求

固态

负责人:袁老师   

联系电话:010-60688332 

E-mailyuanhongtao@binn.cas.cn

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